Sisäänkirjautuminen

Tan, Cher Ming

Electromigration Modeling at Circuit Layout Level

Tan, Cher Ming - Electromigration Modeling at Circuit Layout Level, e-kirja

58,15€

E-kirja, PDF, Adobe DRM-suojattu
ISBN: 9789814451215
DRM-rajoitukset

TulostusEi sallittu
Kopioi leikepöydälleEi sallittu

Table of contents

1. Introduction
Cher Ming Tan, Feifei He

2. 3D Circuit Model Construction and Simulation
Cher Ming Tan, Feifei He

3. Comparison of EM Performances in Circuit and Test Structures
Cher Ming Tan, Feifei He

4. Interconnect EM Reliability Modeling at Circuit Layout Level
Cher Ming Tan, Feifei He

5. Concluding Remarks
Cher Ming Tan, Feifei He

Avainsanat: Engineering, Quality Control, Reliability, Safety and Risk, Electronic Circuits and Devices, Atomic, Molecular, Optical and Plasma Physics

Tekijä(t)
 
Julkaisija
Springer
Julkaisuvuosi
2013
Kieli
en
Painos
2013
Sarja
SpringerBriefs in Applied Sciences and Technology
Sivumäärä
10 sivua
Kategoria
Tekniikka, energia, liikenne
Tiedostomuoto
E-kirja
eISBN (PDF)
9789814451215

Samankaltaisia e-kirjoja