Sisäänkirjautuminen

Baudrant, Annie

Silicon Technologies: Ion Implantation and Thermal Treatment

Baudrant, Annie - Silicon Technologies: Ion Implantation and Thermal Treatment, e-kirja

DRM-rajoitukset

Tulostus30 sivua ja lisä sivu kertyy joka päivä, ylärajana 30 sivua
Kopioi leikepöydälle5 poimintoa

The main purpose of this book is to remind new engineers in silicon foundry, the fundamental physical and chemical rules in major Front end treatments: oxidation, epitaxy, ion implantation and impurities diffusion.

Avainsanat: jeanjacques; oxidation; techniques; overview; various; properties; physical; silica; atomic transport; equations; possible; mechanisms; place; transport; case; thermal; grove; theory, Electronic Materials, Electronic Materials, Electronic Materials, Electronic Materials

Toimittaja
Julkaisija
John Wiley and Sons, Inc.
Julkaisuvuosi
2011
Kieli
en
Painos
1
Sarja
ISTE
Sivumäärä
368 sivua
Kategoria
Tekniikka, energia, liikenne
Tiedostomuoto
E-kirja
eISBN (ePUB)
9781118601143
Painetun ISBN
9781848212312

Samankaltaisia e-kirjoja